<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?><rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom"><channel><title>Layout on ICCI</title><link>https://icci.ink/categories/layout/</link><description>Recent content in Layout on ICCI</description><generator>Hugo</generator><language>zh-cn</language><lastBuildDate>Thu, 10 Jul 2025 00:00:00 +0000</lastBuildDate><atom:link href="https://icci.ink/categories/layout/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml"/><item><title>版图注意点</title><link>https://icci.ink/ic/analog/ana-%E7%89%88%E5%9B%BE%E6%95%88%E5%BA%94/</link><pubDate>Thu, 10 Jul 2025 00:00:00 +0000</pubDate><guid>https://icci.ink/ic/analog/ana-%E7%89%88%E5%9B%BE%E6%95%88%E5%BA%94/</guid><description>&lt;p&gt;闩锁效应、ESD保护、天线效应&lt;/p&gt;
&lt;p&gt;&lt;strong&gt;目录&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;
&lt;ul&gt;
&lt;li&gt;TOC
{:toc}&lt;/li&gt;
&lt;/ul&gt;
&lt;hr&gt;
&lt;h2 id="闩锁效应"&gt;闩锁效应&lt;a class="anchor" href="#%e9%97%a9%e9%94%81%e6%95%88%e5%ba%94"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h2&gt;
&lt;h3 id="latch-up"&gt;latch up&lt;a class="anchor" href="#latch-up"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h3&gt;
&lt;p&gt;CMOS电路中，存在寄生的三极管PNPN,它们相互影响在VDD与GND间产生一低阻通路，形成大电流，烧坏芯片这就是Latch up，又称栓锁效应。&lt;/p&gt;
&lt;h3 id="产生原因"&gt;产生原因&lt;a class="anchor" href="#%e4%ba%a7%e7%94%9f%e5%8e%9f%e5%9b%a0"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h3&gt;
&lt;p&gt;在CMOS工艺中制作的N管和P管间会存在寄生的BJT（PNPN）；如下（以N井CMOS工艺制作的反相器为例），N管和P管间存在一个纵向的PNP，和一个横向的NPN。&lt;/p&gt;
&lt;div class="img-center"&gt;&lt;img src="https://icci.ink/images/blog/latchup.png"/&gt;
&lt;p&gt;寄生三极管&lt;/p&gt;
&lt;/div&gt;
&lt;p&gt;正常工作情况下，三极管是截止的；不会发生Latch up； 当受到外界来自电源，I/O，ESD静电泄放的干扰时，使得其中一个三极管导通后，将反馈到另一个三极管也导通，由于这两个三极管的输入输出是彼此首尾相接，因此形成一个不断循环放大的环路，电流在这个结构里面不断放大，最终超过芯片承受范围，使得芯片被烧坏&lt;/p&gt;
&lt;div class="img-center"&gt;&lt;img src="https://icci.ink/images/blog/寄生三极管.png"/&gt;
&lt;p&gt;寄生三极管电流回路&lt;/p&gt;
&lt;/div&gt;
&lt;h3 id="避免的方法"&gt;避免的方法&lt;a class="anchor" href="#%e9%81%bf%e5%85%8d%e7%9a%84%e6%96%b9%e6%b3%95"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h3&gt;
&lt;p&gt;&lt;strong&gt;工艺制造时：&lt;/strong&gt;
采用重掺杂的衬底（降低Rsub，减小放大环路增益） 采用轻掺杂的外延层（阻止侧向漏电流从纵向PNP到低阻衬底的通路） 使用绝缘隔离槽（SOI绝缘体上硅工艺可彻底消除闩锁效应）&lt;br&gt;
&lt;strong&gt;版图设计时：&lt;/strong&gt;
多打接触孔，接触孔尽量靠近active有源区（降低Rwell，Rsub） 使用Guard ring(一方面降低Rwell，Rsub，一方面阻止载流子到达BJT基极) NMOS靠近GND，PMOS靠近VDD并保持足够距离，降低SCR触发的可能；&lt;/p&gt;
&lt;h2 id="esd保护"&gt;ESD保护&lt;a class="anchor" href="#esd%e4%bf%9d%e6%8a%a4"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h2&gt;
&lt;h3 id="静电效应"&gt;静电效应&lt;a class="anchor" href="#%e9%9d%99%e7%94%b5%e6%95%88%e5%ba%94"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h3&gt;
&lt;p&gt;芯片突然受到高电压低电流的刺激，容易使得芯片被损坏。&lt;/p&gt;
&lt;h3 id="产生原因-1"&gt;产生原因&lt;a class="anchor" href="#%e4%ba%a7%e7%94%9f%e5%8e%9f%e5%9b%a0-1"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h3&gt;
&lt;p&gt;三种产生模型：
&lt;strong&gt;人体接触&lt;/strong&gt; 带静电的人手触摸芯片&lt;/p&gt;
&lt;p&gt;&lt;strong&gt;机器接触&lt;/strong&gt; 制造过程中，与机器接触&lt;/p&gt;
&lt;p&gt;&lt;strong&gt;自产生电荷&lt;/strong&gt; 已封装芯片在组合或运输过程中产生电荷&lt;/p&gt;
&lt;p&gt;三种模式的电荷不同，作用时间也不同&lt;/p&gt;
&lt;h3 id="避免的方法-1"&gt;避免的方法&lt;a class="anchor" href="#%e9%81%bf%e5%85%8d%e7%9a%84%e6%96%b9%e6%b3%95-1"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h3&gt;
&lt;ol&gt;
&lt;li&gt;增加芯片的抗静电能力
在芯片的pin引脚增加ESD防护电路可以增加芯片对ESD静电的防护能力，但代价是增加了很多芯片面积（ESD器件通常很大一个）&lt;/li&gt;
&lt;/ol&gt;
&lt;div class="img-center"&gt;&lt;img src="https://icci.ink/images/blog/esd.png"/&gt;
&lt;p&gt;ESD保护电路&lt;/p&gt;
&lt;/div&gt;
2. 在接触的时候尽量避免静电，如：在防静电操作台上操作芯片
&lt;h2 id="天线效应"&gt;天线效应&lt;a class="anchor" href="#%e5%a4%a9%e7%ba%bf%e6%95%88%e5%ba%94"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h2&gt;
&lt;h3 id="process-antenna-effectpae"&gt;process antenna effect（PAE）&lt;a class="anchor" href="#process-antenna-effectpae"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h3&gt;
&lt;p&gt;在芯片的蚀刻过程钟，容易出现电荷积累击穿mos管，导致部分mos管的性能出现损失。&lt;/p&gt;
&lt;h3 id="产生原因-2"&gt;产生原因&lt;a class="anchor" href="#%e4%ba%a7%e7%94%9f%e5%8e%9f%e5%9b%a0-2"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h3&gt;
&lt;p&gt;干蚀刻（etch）需要使用很强的电场驱动离子原浆，在蚀刻gate poly和氧化层边的时候，电荷可能积累在gate poly上，并产生电压足以使电流穿过gate的氧化层，虽然这种状况通常不会PAE破坏gate氧化层，但会降低其绝缘程度。这种降低程度于gate氧化层面积内通过的电荷数成正比。每一poly区积累的正电荷与它的面积成正比，如果一块很小的gate氧化层连接到一块很大的poly图形时，就可能造成超出比例的破坏，因为大块的poly区就像一个天线一样收集电荷，所以这种效应称为天线效应，天线效应也会发生在source/drain的离子植入时。&lt;/p&gt;
&lt;h3 id="避免的方法-2"&gt;避免的方法&lt;a class="anchor" href="#%e9%81%bf%e5%85%8d%e7%9a%84%e6%96%b9%e6%b3%95-2"&gt;#&lt;/a&gt;&lt;/h3&gt;
&lt;p&gt;&lt;strong&gt;尽量避免画一条很长的线&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;
&lt;p&gt;消除天线效应的方法主要是设法降低接到gate的poly面积。在poly接至gate增加一个metal跳线，即减小了接至gate的poly与gate氧化层的面积之比，起到消除天线效应的作用。&lt;/p&gt;
&lt;div class="img-center"&gt;&lt;img src="https://icci.ink/images/blog/PEA.png"/&gt;
&lt;p&gt;天线效应&lt;/p&gt;
&lt;/div&gt;
① 向上跳层，将面积违例的金属层分成多段，以达到减小"天线"面积的目的
② 在有天线效应违例的net上挂反向的antenna diode以泄放金属层收集到的电荷。
③插入buffer，减小net长度达到减小“天线”面积的目的。</description></item></channel></rss>